HACH/9210 硅在线分析仪是哈希公司推出的一款用于在线连续监控硅含量的仪器，主要应用于电子半导体、电力等行业。以下是其详细介绍：
测量范围：有 0-1000ppb SiO₂和 0-5000ppb SiO₂两种测量范围可选。
检测极限：小于 0.5ppb 或 2ppb。
重现性：±0.5ppb 或 ±2% 取大者，±2ppb 或 ±2% 取大者。
循环时间：约 10 分钟（每通道）。
样品要求：温度为 5-50℃，压力为 0.2-2bar（0.5-6bar 须加选配件），取样流量 15-20L/h。
主要特点
多通道操作：可实现 1-6 通道的编程时序操作，能同时监测多个点位的硅含量。
低维护成本：试剂消耗量少，每 45 天填充一次试剂和校准溶液即可。
校准方便：具备自动两点校准功能，即化学零点和斜率校准，也可通过编程设定校准周期。
数据记录与显示：内置数据记录仪，可记录浓度、自诊断、报警状态、校准常数、历史数据、趋势曲线等信息，并有背光功能的 LCD 显示。
通讯功能多样：标准配置有 RS485 通讯接口，还可选 Profibus 等通讯接口，同时具有 6 个 0/4-20mA 模拟输出（每通道 1 个），最大负载 650Ω，以及 8 个继电器输出，可用于浓度报警、样水不足报警等。
应用场景：主要用于电子半导体行业中超纯水中 SiO₂含量的监控，也适用于电厂的除盐水车间、炉水、给水和蒸汽等场景中硅含量的在线监测和控制。
